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■ 概要
　円高及び日本市場の縮小傾向を受け、巨大市場である中国へ進出する企業が年々増加している。日本から中国へ製品を輸出し中国市場で販路を拡大する企業、中国に工場を設け中国を拠点として世界各国へ輸出する企業、さらには中国市場のニーズに適合した製品をスピーディに提供すべく、中国本土で研究開発を行う企業も増加している。
　このような場合、従来から問題視されている模造品への対応に加えて、自主創造をスローガンに発明特許権及び実用新案特許権の取得を急増させている中国企業の権利を分析し、中国での訴訟リスクを低減させる必要もある。また中国において研究開発を行う際には、中国開発拠点における職務発明の問題、秘密保持審査の申請、営業秘密の管理、現地の知的財産部員の育成等、様々な問題に直面する。
　本研修では、日本企業が中国へ進出する際の各ステージにおいて問題となる点及び対応策等を各種専門家が多様な観点から解説を行うと共に、次の成長に向けてこれからの日本企業がとるべき対策についてパネルディスカッション形式で議論する。

■ 開催日時
＜大阪＞
日時：2013年1月31日（木）　13：00～17：45
会場：AP 大阪駅前梅田一丁目 APホールⅡ
＜東京＞
日時：2013年2月4日（月）　13：00～17：45
会場：全社協･灘尾ホール

■ 受講対象者
弁理士

■ 講師
・水元　大介　弁理士（（株）日立製作所　知的財産権本部　知財開発本部　部長代理）（東京会場のみ）
・西野　卓嗣　弁理士（西野特許事務所、元シスメックス（株））（大阪会場のみ）
・魏　啓学　中国弁護士・弁理士（北京林達劉知識産権代理事務所）
・服部　正明　氏（日本貿易振興機構（JETRO）　知的財産課アドバイザー）
・遠藤　誠　弁護士（森・濱田松本法律事務所）
・河野　英仁　弁理士（河野特許事務所）
・橋本　虎之助　弁理士（橋本総合特許事務所、研修所副所長）（モデレータとして参加）

■ プログラム内容
（１）第１部：基調講演（2～2.5時間）
（２）第２部：パネルディスカッション（1.5～2時間）

■ 申し込み方法（申込開始日は１月７日午前１０時からです）
ＷＥＢ：下記へアクセス
　　〈大阪〉 http://www.benrishi-navi.com/f/?id=6221&type=osaka
　　〈東京〉 http://www.benrishi-navi.com/f/?id=6222&type=tokyo

ＦＡＸ：研修所ＮＥＷＳ１２月号の申込書にご記入の上事務局へ送付ください。